Model 1063- System do ścieniania jonowego WaferMill – delayering solution

  • Opis
  • Specyfikacja
  • Doposażenie
  • Materiały eksploatacyjne

Opis

System umożliwia ukazywanie warstw wcześniej wybranych obszarów wafli krzemowych. W pełni automatyczny proces jest wykorzystywany w przemysle półprzewodników do przygotowania próbek CD-SEM (Critical dimensions – SEM).

Właściwości:
-ścienianie wybranych obszarów wafli krzemowych 300mm

– top down delayering

– możliwość uwidaczniania warstw urządzeń oraz struktur

-Wykorzystywane w wielu działach przemysłu półprzewodnikowego:

  • W badaniach i rozwoju
  • Kontroli procesów
  • Zwiększenia wydajności
  • W analizie uszkodzeń (failuree analysis)

Specyfikacja

System umożliwia ukazywanie warstw wcześniej wybranych obszarów wafli krzemowych. W pełni automatyczny proces jest wykorzystywany w przemysle półprzewodników do przygotowania próbek CD-SEM (Critical dimensions – SEM).

Właściwości:
-ścienianie wybranych obszarów wafli krzemowych 300mm

– top down delayering

– możliwość uwidaczniania warstw urządzeń oraz struktur

-Wykorzystywane w wielu działach przemysłu półprzewodnikowego:

  • W badaniach i rozwoju
  • Kontroli procesów
  • Zwiększenia wydajności
  • W analizie uszkodzeń (failuree analysis)

Doposażenie

Materiały eksploatacyjne

Siateczki do TEM Value-TEC miedziane

Siatki TEM z kwadratową strukturą – niklowe

Siatki z pokryciem: Carbon, miedziane

 

Po więcej materiałów eksploatacyjnych zapraszamy do naszego sklepu internetowego Micro-Shop.