Ultraszybki zautomatyzowany wielowiązkowy mikroskop elektronowy – FAST -EM

  • Opis
  • Specyfikacja

Opis

FAST-EM to ultraszybki zautomatyzowany wielowiązkowy mikroskop elektronowy  (EM) przeznaczony do tworzenia złożonych i dużych projektów mikroskopowych w sposób prosty i wydajny. Dzięki zautomatyzowanej akwizycji, ten wysokowydajny system jest idealny do obrazowanie dużych lub wielu próbek do analizy ilościowej.

Dostarcza wielu informacji zachowując jednoczesny prosty worflow. System pozwala użytkownikom na szybką zmianę uwagi z analizy materiałów za pomocą mikroskopu do jednoczesnej analizy danych. FAST-EM może być używany do eksploracji architektury komórek do tzw. the interaction of neuronal circuits i analizy dowolnych materiałów biologiczny.

Jest to niezwykle przydatne narzędzie  do obrazowania 3D dużych próbek, obrazowanie 2D na dużą skalę  i jako narzędzie, które może znacznie przyspieszyć codzienną mikroskopię za pomocą mikroskopu elektronowego.

Specyfikacja

Optyka elektronowa
System bazowyThermo Fisher Scientific Apreo 2
Emitter:Schottky field emission source
Emitter stability:Per 24 hours3%
High tension range:2.5-10 kV
Beamlet current:400-800 pA
Total current:25.6-51.2 nA
Electron beam resolution:(35-65% edge)4 nm
Nominal working distance:5 mm
Single beam mode:Yes
Skanowanie oraz detekcja
Multiprobe arrangement:Square, 8 x 8 array
Beamlets:64
Dwell time:400 ns minimum, adjustable
Pixel size:During field acquisition4 nm
Field of view:At 3.2 μm pitch25.6 x 25.6 um
DetectorsMultibeamTransmission detector with 64 silicon photomultiplier cells
Single-beamSegmented in-lens backscattered electron detector
Upper in-lens secondary electron detector
Próbka oraz stolik  
Type3 axes motorized (XYZ)
Stage position readoutLaser interferometry for nanometer-level positioning accuracy
Travel range XY50 × 50 mm
Typical substrate size14 x 14 mm*
Max simultaneous substratesWhen using 14 × 14 mm substrates9 – for a total of ~850 1*1 mm sections
Imaging workflow
Usable samplesDirectly on scintillatorsResin sections (maximum thickness of 150 nm), nanoparticles, vesicles, viruses
On TEM grids**Resin sections (maximum thickness of 150 nm), nanoparticles, vesicles, viruses
Unattended run-time72 hours
Use casesRoutine data collectionSemi-automated imaging of user-defined ROIs and section arrays
Sustained throughputDuring megafield acquisition at 400 ns100 megapixels/second
Data formatOne 16-bit TIFF per field image, stored per project
Software
Microscope controlLinux-based acquisition control
Acquisition supportUser guidance for basic operations
System health monitoringContinuous logging of crucial system features
Automatic calibrationsDetector gain, detector alignment, autostigmation, autofocus, global alignment of components
Próżnia i wspierające oprzyrządowanie
Vacuum pumpsTurbomolecular pump, scroll pump (backing)
Operational vacuum≤ 3 × 10-5 mbar
Network storage connection10 Gbit Ethernet (10GBASE-SR using LC Duplex OM3 MM fiber)
Komponenty opcjonalne  
High performance storage moduleScalable high-speed storage for data analysis and data sharing
Support InfrastructureStandalone water chiller
Acoustic enclosure for backing pump
Consumables14 × 14 × 0.15 mm scintillator substrates