Ultraszybki zautomatyzowany wielowiązkowy mikroskop elektronowy – FAST -EM

  • Opis
  • Specyfikacja

Opis

FAST-EM, ultraszybki zautomatyzowany wielowiązkowy mikroskop elektronowy (EM), zaprojektowany wspólnie z ThermoFisher, Technolution i TU Delft w celu uproszczenia i wydajności złożonych przepływów pracy EM. FAST-EM umożliwia obrazowanie cienkich próbek z niespotykaną szybkością i poziomem automatyzacji, który umożliwia obrazowanie na dużą skalę bez konieczności stałego nadzoru. Zapewniając szczegółowe informacje przy jednoczesnym zachowaniu prostoty procesów, system ten pozwala przenieść punkt ciężkości z obsługi mikroskopu na analizę danych.

Jest to niezwykle przydatne narzędzie  do obrazowania 3D dużych próbek, obrazowanie 2D na dużą skalę  i jako narzędzie, które może znacznie przyspieszyć codzienną pracę za pomocą mikroskopu elektronowego.

Mikroskop wyposażony jest w działo z emisją polową Schotky’ego. Jednym z powodów, które pozwalają uzyskać niezwykłą szybkość jest wykorzystanie 64 równoległych wiązek, które skanują jednocześnie analizowany obszar. Sygnały są rejestrowane za pomocą szybkiej i bardzo czułej matrycy Silicon Photo Multiplier (SiPM). Takie podejście pozwala osiągnąć znacznie wyższe prędkości akwizycji.

 

Specyfikacja

Optyka elektronowa
System bazowyThermo Fisher Scientific Apreo 2
Emitter:Schottky field emission source
Emitter stability:Per 24 hours3%
High tension range:2.5-10 kV
Beamlet current:400-800 pA
Total current:25.6-51.2 nA
Electron beam resolution:(35-65% edge)4 nm
Nominal working distance:5 mm
Single beam mode:Yes
Skanowanie oraz detekcja
Multiprobe arrangement:Square, 8 x 8 array
Beamlets:64
Dwell time:400 ns minimum, adjustable
Pixel size:During field acquisition4 nm
Field of view:At 3.2 μm pitch25.6 x 25.6 um
DetectorsMultibeamTransmission detector with 64 silicon photomultiplier cells
Single-beamSegmented in-lens backscattered electron detector
Upper in-lens secondary electron detector
Próbka oraz stolik  
Type3 axes motorized (XYZ)
Stage position readoutLaser interferometry for nanometer-level positioning accuracy
Travel range XY50 × 50 mm
Typical substrate size14 x 14 mm*
Max simultaneous substratesWhen using 14 × 14 mm substrates9 – for a total of ~850 1*1 mm sections
Imaging workflow
Usable samplesDirectly on scintillatorsResin sections (maximum thickness of 150 nm), nanoparticles, vesicles, viruses
On TEM grids**Resin sections (maximum thickness of 150 nm), nanoparticles, vesicles, viruses
Unattended run-time72 hours
Use casesRoutine data collectionSemi-automated imaging of user-defined ROIs and section arrays
Sustained throughputDuring megafield acquisition at 400 ns100 megapixels/second
Data formatOne 16-bit TIFF per field image, stored per project
Software
Microscope controlLinux-based acquisition control
Acquisition supportUser guidance for basic operations
System health monitoringContinuous logging of crucial system features
Automatic calibrationsDetector gain, detector alignment, autostigmation, autofocus, global alignment of components
Próżnia i wspierające oprzyrządowanie
Vacuum pumpsTurbomolecular pump, scroll pump (backing)
Operational vacuum≤ 3 × 10-5 mbar
Network storage connection10 Gbit Ethernet (10GBASE-SR using LC Duplex OM3 MM fiber)
Komponenty opcjonalne  
High performance storage moduleScalable high-speed storage for data analysis and data sharing
Support InfrastructureStandalone water chiller
Acoustic enclosure for backing pump
Consumables14 × 14 × 0.15 mm scintillator substrates