Model 1063- System do ścieniania jonowego WaferMill – delayering solution
Opis
System umożliwia ukazywanie warstw wcześniej wybranych obszarów wafli krzemowych. W pełni automatyczny proces jest wykorzystywany w przemysle półprzewodników do przygotowania próbek CD-SEM (Critical dimensions – SEM).
Właściwości:
-ścienianie wybranych obszarów wafli krzemowych 300mm
– top down delayering
– możliwość uwidaczniania warstw urządzeń oraz struktur
-Wykorzystywane w wielu działach przemysłu półprzewodnikowego:
- W badaniach i rozwoju
- Kontroli procesów
- Zwiększenia wydajności
- W analizie uszkodzeń (failuree analysis)
Specyfikacja
System umożliwia ukazywanie warstw wcześniej wybranych obszarów wafli krzemowych. W pełni automatyczny proces jest wykorzystywany w przemysle półprzewodników do przygotowania próbek CD-SEM (Critical dimensions – SEM).
Właściwości:
-ścienianie wybranych obszarów wafli krzemowych 300mm
– top down delayering
– możliwość uwidaczniania warstw urządzeń oraz struktur
-Wykorzystywane w wielu działach przemysłu półprzewodnikowego:
- W badaniach i rozwoju
- Kontroli procesów
- Zwiększenia wydajności
- W analizie uszkodzeń (failuree analysis)
Doposażenie
Materiały eksploatacyjne
Po więcej materiałów eksploatacyjnych zapraszamy do naszego sklepu internetowego Micro-Shop.