Ultraszybki zautomatyzowany wielowiązkowy mikroskop elektronowy – FAST -EM
Opis
FAST-EM, ultraszybki zautomatyzowany wielowiązkowy mikroskop elektronowy (EM), zaprojektowany wspólnie z ThermoFisher, Technolution i TU Delft w celu uproszczenia i wydajności złożonych przepływów pracy EM. FAST-EM umożliwia obrazowanie cienkich próbek z niespotykaną szybkością i poziomem automatyzacji, który umożliwia obrazowanie na dużą skalę bez konieczności stałego nadzoru. Zapewniając szczegółowe informacje przy jednoczesnym zachowaniu prostoty procesów, system ten pozwala przenieść punkt ciężkości z obsługi mikroskopu na analizę danych.
Jest to niezwykle przydatne narzędzie do obrazowania 3D dużych próbek, obrazowanie 2D na dużą skalę i jako narzędzie, które może znacznie przyspieszyć codzienną pracę za pomocą mikroskopu elektronowego.
Mikroskop wyposażony jest w działo z emisją polową Schotky’ego. Jednym z powodów, które pozwalają uzyskać niezwykłą szybkość jest wykorzystanie 64 równoległych wiązek, które skanują jednocześnie analizowany obszar. Sygnały są rejestrowane za pomocą szybkiej i bardzo czułej matrycy Silicon Photo Multiplier (SiPM). Takie podejście pozwala osiągnąć znacznie wyższe prędkości akwizycji.
Specyfikacja
Optyka elektronowa | |||||
System bazowy | Thermo Fisher Scientific Apreo 2 | ||||
Emitter: | Schottky field emission source | ||||
Emitter stability: | Per 24 hours | 3% | |||
High tension range: | 2.5-10 kV | ||||
Beamlet current: | 400-800 pA | ||||
Total current: | 25.6-51.2 nA | ||||
Electron beam resolution: | (35-65% edge) | 4 nm | |||
Nominal working distance: | 5 mm | ||||
Single beam mode: | Yes | ||||
Skanowanie oraz detekcja | |||||
Multiprobe arrangement: | Square, 8 x 8 array | ||||
Beamlets: | 64 | ||||
Dwell time: | 400 ns minimum, adjustable | ||||
Pixel size: | During field acquisition | 4 nm | |||
Field of view: | At 3.2 μm pitch | 25.6 x 25.6 um | |||
Detectors | Multibeam | Transmission detector with 64 silicon photomultiplier cells | |||
Single-beam | Segmented in-lens backscattered electron detector | ||||
Upper in-lens secondary electron detector | |||||
Próbka oraz stolik | |||||
Type | 3 axes motorized (XYZ) | ||||
Stage position readout | Laser interferometry for nanometer-level positioning accuracy | ||||
Travel range XY | 50 × 50 mm | ||||
Typical substrate size | 14 x 14 mm* | ||||
Max simultaneous substrates | When using 14 × 14 mm substrates | 9 – for a total of ~850 1*1 mm sections | |||
Imaging workflow | |||||
Usable samples | Directly on scintillators | Resin sections (maximum thickness of 150 nm), nanoparticles, vesicles, viruses | |||
On TEM grids** | Resin sections (maximum thickness of 150 nm), nanoparticles, vesicles, viruses | ||||
Unattended run-time | 72 hours | ||||
Use cases | Routine data collection | Semi-automated imaging of user-defined ROIs and section arrays | |||
Sustained throughput | During megafield acquisition at 400 ns | 100 megapixels/second | |||
Data format | One 16-bit TIFF per field image, stored per project | ||||
Software | |||||
Microscope control | Linux-based acquisition control | ||||
Acquisition support | User guidance for basic operations | ||||
System health monitoring | Continuous logging of crucial system features | ||||
Automatic calibrations | Detector gain, detector alignment, autostigmation, autofocus, global alignment of components | ||||
Próżnia i wspierające oprzyrządowanie | |||||
Vacuum pumps | Turbomolecular pump, scroll pump (backing) | ||||
Operational vacuum | ≤ 3 × 10-5 mbar | ||||
Network storage connection | 10 Gbit Ethernet (10GBASE-SR using LC Duplex OM3 MM fiber) | ||||
Komponenty opcjonalne | |||||
High performance storage module | Scalable high-speed storage for data analysis and data sharing | ||||
Support Infrastructure | Standalone water chiller | ||||
Acoustic enclosure for backing pump | |||||
Consumables | 14 × 14 × 0.15 mm scintillator substrates |