System Quantax Micro-XRF
Opis
System Micro-XRF, zawierający źródło XTrace promieniowania X, rozszerza możliwości skaningowych mikroskopów elektronowych o funkcjonalność kompletnego spektrometru mikro-XRF. Może on być instalowany w większości mikroskopów SEM posiadających wolny, nachylony port.
W systemie wykorzystano wielokapilarną optykę promieniowania X, która umożliwia generację fluorescencji o wysokiej intensywności na bardzo małych obszarach próbki. Optyka pozwala na zbieranie promieniowania z dużego kąta bryłowego i skupia promieniowanie X w plamce o średnicy do 35 mikrometrów dla promieniowania Mo-K.
Generowane spektrum fluorescencji promieniowania X jest mierzone za pomocą załączonego detektora SDD XFlash® wchodzącego w skład systemu Quantax EDS. Korzystanie z detektora XFlash® umożliwia uzyskanie doskonałej rozdzielczości energetycznej określonej w specyfikacji detektora. Uzyskiwana szybkość zliczeń impulsów dochodzi do około 40 000 w ciągu 1 sekundy w przypadku analiz prowadzonych na metalach. W detektorze wykorzystywane jest okno aktywne o powierzchni 30 mm².
Wysoka intensywność generowana przez wielokapilarny system optyki i redukcja tła spektrum promieniowania X służą zwiększeniu czułości systemu na pierwiastki śladowe. W porównaniu do wzbudzania pierwiastków przy pomocy elektronów możliwości detekcji zostały poprawione od 20 do 50 razy. Dodatkowo, dzięki temu, że promieniowanie X dostarcza informacji z większej głębokości niż elektrony możliwe jest badanie próbek o większych rozmiarach.
System Quantax EDS zawierający źródło XTrace oferuje możliwość prowadzenia skorelowanych analiz mikro-XRF i EDS za pomocą jednego interfejsu użytkownika zapewniając optymalne rezultaty, które są lepsze niż w przypadku zastosowania każdej z metod oddzielnie.
Specyfikacja
Typ próbki: stałe, cząstki,
Źródło wzbudzające: Metalowo- ceramiczna lampa rentgenowska o wysokiej jasności z polikapilarną optyką
Parametry wzbudzania:
Materiał źródła: Rh, opcjonalnie Mo, W
Parametry lampy: max. 50kV, 600 μA (30W)
Materiał anody: Rh, opcjonalnie: Mo, W
Optyka polikapilarna: rozmiar plamki < 40 μm dla Mo- K,
Filtry: do 3 podstawowych filtrów wiązki rentgenowskiej
– Standardowa konfiguracja: 100 μm Al, 20 μm Ti, 10 μm Ni (inne filtry dostępne na żądanie)
Detekcja: Xflash SDD*
Kontrola urządzenia: Nie jest wymagany dodatkowy komputer, Quantax EDS PC może być wykorzystany (rekomendowane)
Oprogramowanie urządzenia: Bruker ESPRIT – kompletna kontrola parametrów źródła oraz filtrów
Ocena widma: Identyfikacja pików XRF, korekcja tła oraz artefaktów, obliczanie powierzchni pików, analiza ilościowa bezwzorcowa, połączona analiza EDS oraz XRF, analiza warstw
Analiza rozkładu: możliwość uzyskania HyperMapy (Hyperspektralna baza danych)
Prezentacja wyników: Analiza ilościowa, ocena statystyczna, rozkład pierwiastków (liniowa, mapping)
Zasilanie 100-240VAC (1P), 50/60Hz
Certyfikaty: CE, ISO 9001:2008, Pełna ochrona przed promieniowaniem, promieniowanie < 1 uSv/h
Wymiary: 300x250x140mm
Waga: 11kg
*System XTrace wymaga zainstalowanego spektrometru rentgenowskiego z dyspersją energii QUANTAX (EDS), składający się z detektora serii Xflash SDD, jednostki przetwarzającej sygnał SVE oraz systemu PC
Doposażenie
XMETHOD Layer – grubość powłok dla XTRACE
Micro-XRF jest powszechnie stosowaną nieniszczącą metodą analityczną do pomiaru grubości pokryć różnych rodzajów próbek bez ich wstępnego przygotowania. Dodatkowo skład warstwy można ustalić w tym samym czasie. Przykładami takich zastosowań są: styki złącza lub nierówności lutownicze na płytkach PCB, nośniki mikroukładów, powłoki na ogniwach słonecznych, a nawet powłoki stosowane jako ochrona przed korozją dla różnych rodzajów materiałów. Zarówno nieniszczące działanie metody, jak i zdolność promieni X do przenikania do próbki i uzyskiwania informacji o materiale pod powierzchnią sprawiają, że ta metoda jest atrakcyjna dla analizy grubości i składu pojedynczej i wielu warstw.
Materiały eksploatacyjne
Po więcej materiałów eksploatacyjnych zapraszamy do naszego sklepu internetowego Micro-Shop