NanoMill® wykorzystuje ultraniskoenergetyczną, skoncentrowaną wiązkę jonów gazu obojętnego do precyzyjnego usuwania materiału z wybranego obszaru próbki. System został opracowany przede wszystkim z myślą o końcowym etapie przygotowania próbek TEM, gdzie kluczowe znaczenie ma uzyskanie obszaru transparentnego dla elektronów przy minimalizacji artefaktów związanych z preparatyką.
Technologia NanoMilling® pozwala na usuwanie warstw uszkodzonych i amorficznych bez ponownego osadzania materiału. Dzięki temu NanoMill® doskonale uzupełnia preparatykę wykonywaną metodą FIB, umożliwiając końcowe polerowanie lamelli i ograniczenie efektów związanych z implantacją jonów oraz amorfizacją powierzchni. Skoncentrowana wiązka może być skanowana po powierzchni próbki, a proces jest sterowany komputerowo i w pełni programowalny.
System umożliwia pracę zarówno w temperaturze pokojowej, jak i w warunkach kriogenicznych. NanoMill® znajduje zastosowanie w przygotowaniu próbek do wysokorozdzielczego TEM i STEM, w tym obrazowania aberration-corrected, a także analiz EDS i EELS. Producent podkreśla również możliwość wykorzystania systemu do post-FIB processing oraz poprawy jakości próbek przygotowanych metodami konwencjonalnymi.

Copyright © 2026 by PIK Instruments | All Rights Reserved | Design by Pride of Lions