Przełomowa technologia wielokapilarnej optyki

Sercem systemu jest zaawansowana wielokapilarna optyka promieniowania X, która umożliwia generację fluorescencji o wysokiej intensywności na bardzo małych obszarach próbki:

• Precyzyjne skupienie wiązki – optyka zbiera promieniowanie z dużego kąta bryłowego i skupia je w plamce o średnicy do 35 mikrometrów dla promieniowania Mo-K.
• Znacząca poprawa czułości – w porównaniu do wzbudzania elektronami, możliwości detekcji pierwiastków śladowych zostały poprawione od 20 do 50 razy.
• Większa głębokość analizy – promieniowanie X dostarcza informacji z większej głębokości niż elektrony, umożliwiając badanie próbek o większych rozmiarach i analizę warstw podpowierzchniowych.
• Redukcja tła – wysoka intensywność generowana przez optykę i redukcja tła spektrum służą zwiększeniu czułości systemu na pierwiastki śladowe.

Integracja i synergia metod

System Quantax XTrace został zaprojektowany do bezproblemowej współpracy z istniejącą konfiguracją EDS:

• Wykorzystanie detektora XFlash®

  Generowane spektrum fluorescencji jest mierzone za pomocą załączonego detektora SDD XFlash® wchodzącego w skład systemu Quantax EDS, co zapewnia doskonałą rozdzielczość energetyczną i szybkość zliczeń do około 40 000 cps dla metali.

• Skorelowane analizy mikro-XRF i EDS

  System oferuje możliwość prowadzenia skorelowanych analiz za pomocą jednego interfejsu użytkownika (oprogramowanie ESPRIT), zapewniając optymalne rezultaty, które są lepsze niż w przypadku zastosowania każdej z metod oddzielnie.

• Kompleksowa charakterystyka próbki

  Połączenie informacji z różnych głębokości (EDS – warstwa wierzchnia, XRF – głębsze warstwy) pozwala na pełniejszą i dokładniejszą analizę materiałów, w tym wielowarstwowych struktur.

Korzyści z zastosowania XTrace

• Lepsza detekcja pierwiastków śladowych – poprawa czułości od 20 do 50 razy w porównaniu do standardowego EDS.
• Analiza większych próbek – większa głębokość wnikania promieniowania X umożliwia badanie próbek niedostępnych dla samego EDS.
• Możliwość analizy warstw – z opcjonalnym oprogramowaniem XMETHOD Layer, system umożliwia nieniszczący pomiar grubości powłok.
• Efektywne wykorzystanie istniejącego sprzętu – system instaluje się w wolnym porcie SEM, rozszerzając funkcjonalność bez konieczności zakupu osobnego spektrometru micro-XRF.

Specyfikacja systemu XTrace

Oprogramowanie ESPRIT – funkcjonalność

System XTrace jest w pełni zintegrowany z oprogramowaniem Bruker ESPRIT, które zapewnia:

• Kompletną kontrolę parametrów źródła – napięcie, prąd, filtry
• Ocenę widma – identyfikacja pików XRF, korekcja tła oraz artefaktów, obliczanie powierzchni pików
• Analizę ilościową bezwzorcową – szybkie oszacowanie składu bez wzorców
• Połączoną analizę EDS oraz XRF – korelacja danych z obu metod
• Analizę warstw – z opcjonalnym modułem XMETHOD Layer
• HyperMapy (hyperspektralne bazy danych) – zaawansowana analiza rozkładu pierwiastków
• Różnorodną prezentację wyników – analiza ilościowa, ocena statystyczna, rozkład liniowy i mapowanie

Doposażenie: XMETHOD Layer

XMETHOD Layer – grubość powłok dla XTRACE to opcjonalny moduł oprogramowania rozszerzający możliwości systemu o nieniszczący pomiar grubości powłok:

• Pomiar grubości powłok – nieniszcząca analiza różnych rodzajów próbek bez wstępnego przygotowania.
• Jednoczesne określenie składu warstwy – analiza składu chemicznego w tym samym pomiarze.
• Przykłady zastosowań – styki złączy, nierówności lutownicze na płytkach PCB, nośniki mikroukładów, powłoki na ogniwach słonecznych, powłoki antykorozyjne.
• Analiza pojedynczych i wielu warstw – zdolność promieni X do przenikania w głąb próbki umożliwia badanie struktur wielowarstwowych.